研讨会简介

本次研讨会将深入探讨光学核心领域，旨在为参与者提供系统的专业知识更新，强化技术研发与工程实践能力。同时，研讨会将搭建一个交流平台，促进光学工程师之间的合作，共同解决技术应用中的挑战，推动光学技术的产业化进程。

研讨会大纲

波动光学

1. 衍射光学仿真与分析:
运用 OAS 软件开展衍射效应模拟实验时，需深入理解其相干光源模型及光线追迹算法，以准确处理相干场传播过程；同时应系统掌握波动光学分析中各类探测器的工作机制，通过探测器获取复振幅数据并进行分析，从而精确研究衍射条纹的形态特征与空间分布规律。
2. 干涉仪建模与相干场传播分析:
利用 OAS 完成干涉仪建模，学习运用子组件构建模型及膜层定义方法，研究相干场传播特性。

杂散光分析与控制

1.杂散光的成因、影响与基础控制:​
使用 OAS 软件分析杂散光，明确其源于系统内反射折射偏差、外部光侵入及元件缺陷散射等；知晓其会降低成像对比度、造成信号失真；可通过软件追迹定位来源，采用遮挡、光阑设置等基础手段控制。​
2.散射特性、模型构建与表面处理方案:​
研究散射特性，如散射系数、角度分布等；构建散射模型模拟光线散射行为；结合消光漆参数及表面处理工艺，在软件中验证其对散射光的抑制效果，优化处理方案。​
3.鬼像分析与光学设计中的杂散光控制策略:​
利用鬼像分析功能，追踪多次反射折射形成的鬼像，明确其光路及能量分布；在光学设计中融入杂散光控制，通过软件模拟参数影响，采用非球面设计、镀膜优化等策略减少杂散光。​
4.散射杂散光的精细分析与量化评估:​
结合蒙特卡洛算法，模拟散射光线传播路径；通过统计功能获取能量密度、空间分布等数据，评估其影响，为优化控制措施提供量化依据。​

部分案例展示

研讨会基本信息

主办单位：武汉二元科技有限公司
会议地点：湖北·武汉
会议时间：8月22日-23日
参会人员：光学领域的专家、教授、企业家、研究人员、技术人员；高校、科研院所、研究机构的代表；以及对国产光学软件感兴趣的学者及研究者。

研讨会详情

1.此次研修班完全免费，但由于场地和资源有限，席位先到先得，请您通过下方联系方式报名。
2. 培训期间，培训方安装正版光学软件；
3. 学员需携带个人电脑（配置：win10及以上系统，intel处理器）；
4. 请大家注意合理安排时间，建议提前十分钟进入教室。